Форум РадиоКот

vlad465 писал(а):заметны тянучки у отверстий.

Барботаж с легкостью решает эту проблему.

У меня ни барботаж, ни очень интенсивное перемешивание электролита, ни качание полностью эту проблему не решило.
Тянучки в зависимости от направления потока электролита шли в различные стороны, становились малозаметными, но полностью не исчезали.
Даже если тянучки "не тянулись" , заметно у самого отверстия небольшое уменьшение? толщины меди.

Даже если тянучки "не тянулись" , заметно у самого отверстия небольшое уменьшение? толщины меди.

У меня такая же фигня, небольшое обнижение, причем неправильной формы присутствует всегда. Как бы едва заметная раковинка.

vlad465 писал(а):У меня

У меня ещё ток небольшой, может поэтому. Успевает перемешиваться.

Небольшой - это какой?
Я пробовал от 2 до 5 а/дм, различий не заметил.

vlad465
Отверстия чем активировали?

Это палладий.
С гипофосфитом много мусора, пока не удалось избавиться.
А если хорошо промывать - то отверстия вроде и чистые, но много брака.

Это палладий

А где его можно взять этот палладий, в ювелирке? Или может где то еще валяется?
Вы где взяли?

Сам палладий вообще то в ювелирке.
Мне готового растворчика отлили, наслаждаюсь.

vlad465
Понятно, но свой запас наверно тоже нужен или того что отлили на всю жизнь хватит ?

На ближайшее время хватит, а потом нужно будет делать.
А может и с гипофосфитом удасться получить нормальный результат.

sa-ta писал(а):

evsi писал(а):Больше похоже на проблемы с техпроцессом.

в смысле ?

Недостаточно засвеченный фоторезист, как по мне.

evsi писал(а):Недостаточно засвеченный фоторезист, как по мне.

по теме - отмою фоторезист - покажу голые отверстия.

сделал по этому поводу эксперимент - тестовую платку засветил номинально (как то подобрал экспериментально 140сек с засветкой ледами), двойной и тройной выдержкой.
на взгляд, без проявки разницы между двойной и тройной нет вообще. номинальная и двойная слегка отличается тоном (оттенком).фотки разницу вообще не передают.

к своему удивлению обнаружил, что леды достаточно мощные - однокомпонентная маска уже высыхает за 2х140сек.

под ледами имею ввиду это http://www.radiokot.ru/forum/viewtopic. ... 6#p1251666 и таймер для них http://www.radiokot.ru/forum/viewtopic. ... 1#p1314951

p.s. to evsi а как вы платку для маски готовите? у меня на отдельностоящих островках маска на меди отслаивается. я тру ластиком, промываю спиртом, сушу и наношу..
вот на последней http://impulsite.flybb.ru/viewtopic.php?p=9802#9802 там два места где 2х2 пятаки, слезла..правда я спиртом этиловым излишек снимал..

vlad465 писал(а):Небольшой - это какой?

1,5 А/дм.

sa-ta писал(а):

evsi писал(а):Недостаточно засвеченный фоторезист, как по мне.

по теме - отмою фоторезист - покажу голые отверстия.

сделал по этому поводу эксперимент - тестовую платку засветил номинально (как то подобрал экспериментально 140сек с засветкой ледами), двойной и тройной выдержкой.
на взгляд, без проявки разницы между двойной и тройной нет вообще. номинальная и двойная слегка отличается тоном (оттенком).фотки разницу вообще не передают.

Не понял, что значит тройная засветка. По поводу двойной: у меня вторая экспозиция примерно раз в 30 больше первой. После второй экспозиции фоторезист темно-синий.

к своему удивлению обнаружил, что леды достаточно мощные - однокомпонентная маска уже высыхает за 2х140сек.

под ледами имею ввиду это http://www.radiokot.ru/forum/viewtopic. ... 6#p1251666 и таймер для них http://www.radiokot.ru/forum/viewtopic. ... 1#p1314951

Время экспозиции маски сильно зависит от а) толщины слоя, б) мощности. Но насчет того, что она успевает достаточно затвердеть за такое время я сомневаюсь. У меня время экспозиции фотека составляет 23сек, при этом маска "пропекается" за 8мин 30 сек. Добавление еще 30сек приводит к проблемам с отмывкой площадок, то есть это оптимальная выдержка для моей лампы и моих фотошаблонов. С учетом того, что время экспозиции для фотека у вас 140сек, время экспозиции маски должно быть в районе 40-50мин, иначе будут наблюдаться проблемы с адгезией типа той, что ниже.

p.s. to evsi а как вы платку для маски готовите? у меня на отдельностоящих островках маска на меди отслаивается. я тру ластиком, промываю спиртом, сушу и наношу..
вот на последней http://impulsite.flybb.ru/viewtopic.php?p=9802#9802 там два места где 2х2 пятаки, слезла..правда я спиртом этиловым излишек снимал..

Дело не в подготовке. Слезла она там, где не "пропеклась" за время экспозиции. Маска (кстати, как и фоторезист) полимеризуется послойно, от наружного слоя до поверхности платы. Если она до конца не "пропекается", то ближние к плате слои остаются (полу) жидкими и отваливаются от платы при промывке (или туда попадает состав, которым делается отмывка, что, вобщем-то дает такой же эффект только чуть позже). Как не сложно догадаться, подготовка поверхности платы тут никакой роли не играет, поскольку жидкая маска держаться не будет как плату не готовь. На "пропекание" влияет толщина слоя и время экспозиции. Поскольку идеально равномерно выдержать толщину слоя практически не реально, то для получения стабильного результата нужно подобрать максимально возможную выдержку, при которой не возникает проблем с отмывкой площадок.

sa-ta писал(а):я тру ластиком, промываю спиртом

Пока я так подготавливал, маска тоже отслаивалась. Нужно промывать каким-нибудь порошком для чистки до прилипания воды. Я пользуюсь Пемолюксом.
Ещё сталкивался с

Недостаточная предварительная сушка, то есть наличие в покрытии остатков растворителя, который препятствует УФ-полимеризации при экспонировании, может привести к следующим дефектам:
плохое разрешение (подмывание края маски при проявлении), посветление маски в результате абсорбции влаги;

Отсюда - http://www.tech-e.ru/2005_6_41.php

tvmaster1975 писал(а):

sa-ta писал(а):я тру ластиком, промываю спиртом

Пока я так подготавливал, маска тоже отслаивалась. Нужно промывать каким-нибудь порошком для чистки до прилипания воды. Я пользуюсь Пемолюксом.

Местное отслаивание более характерно для недостаточно экспозиции.

Ещё сталкивался с

Недостаточная предварительная сушка, то есть наличие в покрытии остатков растворителя, который препятствует УФ-полимеризации при экспонировании, может привести к следующим дефектам:
плохое разрешение (подмывание края маски при проявлении), посветление маски в результате абсорбции влаги;

Отсюда - http://www.tech-e.ru/2005_6_41.php

Да, качественная сушка - обязательное условие. А с учетом гидрофобности однокомпонентной маски оно приобретает особое значение.

tvmaster1975 писал(а):Есть ещё такая конструкция.

Замечательный аппарат! Алюминиевую будку не открываете ? а если открываете ?

Ruzik писал(а):

tvmaster1975 писал(а): PS Форма выпуска.
Таблетки по 0,5 или 0,35 г.

Я купил по 0,25 гр.

да, только весят они далеко не четверть грамма

mial Вопрос по засветке фоторезиста,при засветке УФ диодами (кстати сколько милликанделл у каждого из ваших диодов ?) насколько соответствует результат с фотошаблоном ? макросъёмкой не проверяли ? (я к тому, что промежутки между дорожками шире или уже чем у фотошаблона ? или соответствуют ему ?)

evsi писал(а):Да, качественная сушка - обязательное условие. А с учетом гидрофобности однокомпонентной маски оно приобретает особое значение.

А разве однокомпонентную маску нужно сушить? Там же вроде как, раскатал под пленкой, про экспонировал, проявил, задубил ультрафиолетом, пользуешься.

psychos писал(а):mial Вопрос по засветке фоторезиста,при засветке УФ диодами (кстати сколько милликанделл у каждого из ваших диодов ?) насколько соответствует результат с фотошаблоном ? макросъёмкой не проверяли ? (я к тому, что промежутки между дорожками шире или уже чем у фотошаблона ? или соответствуют ему ?)

Диоды самые обычные, сколько чего уже не скажу, не помню. Да и марки нет, а то что пишут китайцы... Просвет после проявеи чуть меньше шаблона. После травления компенсируется. Свечу 20 сек. с расстояния 11 см. проявляю, проверяю, и еще дублю порядка 2 мин.

надо. подогрев во время дубления исключительно благоприятно сказывается.