пытаюсь освоить новую для себя технологию ПП-использование фоторезиста.пересмотрел кучу видео на эту тему,но пользы это не принесло. суть проблемы такова:использую пленку ПФ-ВЩ-50,слепил камеру для засветки(две кварцевые лампы по 11 ватт У-образные,на высоте 10см от платы),для проявки-каустическая сода(чайная ложка на поллитру холодной воды).накладывал фотошаблон и засвечивал.через оргстекло-до 5 минут.пробовал переменную выдержку(участки засвечивал с равным интервалом,чтоб подобрать нужное).ИСПАГАНИЛ УЖЕ МЕТРА ПОЛТОРА ЭНТОГО ФОТОРЕЗИСТА,А РЕЗУЛЬТАТ ОДИН И ТОТ ЖЕ СТАБИЛЬНО->на фото.подскажите,плиз,что не так????чую,что дело в засветке,но доказать не могу
- Вложения
-
- SDC14545.JPG
- (81.89 КБ) 994 скачивания


