Фоторезист после гальваники

[vladphys]

Столкнулся с неожиданной проблемой. Делал металлизацию отверстий, все здорово, за исключением того, что после гальваники плата получается не зеркальной, а матовой. И нужно на нее теперь клеить фоторезист. Если клеить по-сухому, то не клеится из-за того, что поверхность не зеркальная. Если же клеить под водой и ставить под пресс на несколько часов, то клеится хорошо, но сам фоторезист портится и после засветки не проявляется так, как надо. Идеальным вариантом было бы таки добиться зеркальной поверхности после гальваники, но этого пока у меня не получается. Во всем остальном получаемая поверхность хорошая. Что можно сделать в данной ситуации?

фоторезист alpha 350

[N1X]

Может не портится, а из за матовой поверхности режимы экспозиции подобрать нужно заново?

[El-Eng]

Не знаю, как Alpha 350, а вот китайский от воды точно, портится. Если его класть на влажную медь, то после экспозиции и проявления на открытых поверхностях остается очень тонкая несмываемая пленка, которая сильно (можно сказать, фатально) мешает травлению. С отечественным МПФ-ВЩ такого не наблюдалось.

vladphys, а вы не пробовали использовать утюг или ламинатор?

[vladphys]

Может не портится, а из за матовой поверхности режимы экспозиции подобрать нужно заново?

Не, он частично полимеризуется от воды

В итоге, проблему с наклейкой решил полировкой платы пастой. Становится хоть и не как в начале было, но достаточно гладкой, чтобы фоторезист клеился